SVS-e2000 蒸发台

 

   


针对耐火和介电材料的高容量工业镀膜, e2000 具有以下优点:
腔体尺寸范围从 6000mm 到 1200mm
多种单塔或多塔电子束枪(单塔可达 200 毫升容量)
(设有多项)热蒸发装置
基材加热和监控系统(可达 650 摄氏度)
基材固定系统包括行星,旋转或直线运动
沉积率的监控和控制系统
离子辅助沉积和基材清洁
反应气体吸入式的氧化物及氮化物生产
低温或涡轮水泵和深冷技术利用一级泵使快速抽真空
全系统自动化

 

对精密光学的“棱镜”蒸发系统

通过以下设备,光学蒸发的棱镜有效范围可应用于 3 个内室尺寸(900,1200 和 1500mm 的基材夹具):

扩散或涡轮泵选择系统
石英晶体率及厚度控制
多达 3 个单塔或多塔电子束源
多电阻加热源
高能离子束源
Pirani/Bayard-Alpert 结合的热离子表
用于反应气体吸入的 2 通道气流控制器
利用水晶灯辐射进行基材加热
配有为客户定制的旋转基材夹具
全系统自动化

可选的额外配件
现场穿透/反射监控装置


 
 
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