SVS-V2000 溅射台

 

 

   


SVS-V2000 溅射台主要功能:  
用于半导体工业生产和实验室样品制备时,电介质膜和其他半导体膜的蒸镀工艺。

主要特点:

1 腔体尺寸:600mm-1200mm(或客户化定制);
2 可单片或多片同时进行;
3 样品台可以行星/旋转/直线等方式运动;
4 镀膜速率等参考可控,可对样品在蒸镀过程中进行实时监测;
5 通过反应气体来产生氧化物和氮化物等;
6 全自动的系统。

 

            


 

 
友情链接:锐峰先科 百度 谷歌 阿里巴巴 慧聪 SEMI中国
 
 
 
 

关于我们|网站地图|产品展台|联系我们

版权所有© 北京锐峰先科技术有限公司 京ICP 06010381

中文|English