FA-2000反应离子刻蚀机(RIE)

 

 

 

   



FA-2000 RIE反应离子刻蚀机主要用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、能源等领域的器件研发和制造。

应用:
器件/IC 的表面打开及内部钝化层的去除。

主要特征:
1. 用户有好界面: 系统的状态、无限的程序存储和屏显示过程都是标准的配置
2. 优秀的腔体设计: 四方的进气模块为反应气体提供了均一的导电系数和对晶元较高的刻蚀速率
3. 13.56兆赫300瓦的射频发生器
4. 6吋的电极可以容纳最大150毫米的晶园
5. 微处理器控制,无限存储量
6. 10.4吋薄膜晶体管显示器, 结果可打印机及传到外接显示器

     

            


 

 
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