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SVS-V2000 溅射台


SVS-V2000 溅射台主要功能:  

用于半导体工业生产和实验室样品制备时,电介质膜和其他半导体膜的蒸镀工艺。

主要特点:

1. 腔体尺寸:600mm-1200mm(或客户化定制); 

2. 可单片或多片同时进行;

3. 样品台可以行星/旋转/直线等方式运动;

4. 镀膜速率等参考可控,可对样品在蒸镀过程中进行实时监测;

5. 通过反应气体来产生氧化物和氮化物等;

6. 全自动的系统。